发明名称 MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS
摘要 <p>플라즈마 산화 처리 장치는, 피처리체를 수용하고, 내부에서 플라즈마 처리를 행하는 진공 유지 가능한 처리 용기와, 처리 용기 내에서 피처리체를 탑재하는 탑재대와, 복수의 슬롯을 갖고, 상기 처리 용기 내에 마이크로파를 도입하는 평면 안테나와, 처리 용기 내에 처리 가스를 도입하는 가스 도입 수단과, 탑재대에 대향하여 배치된 천판을 구비하되, 탑재대에 피처리체를 탑재한 상태에서, 피처리체와 상기 천판과의 간격이 20㎜ 이상 100㎜ 이하로 되도록 하였다.</p>
申请公布号 KR101097574(B1) 申请公布日期 2011.12.22
申请号 KR20100110505 申请日期 2010.11.08
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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