化学机械研磨系统以及研磨液

主权项

一种研磨液，用于化学机械抛光聚合物膜表面，该研磨液包含一研磨颗粒，以及选自由pH值调节剂、介面活性剂、氧化剂、Fe离子、Mn离子、Cu离子所组成之群组中之至少一种化学物质，其中该磨颗粒还包含Al以及催化剂，且被聚四氟乙烯包覆，所述研磨颗粒的含量为0.5-2重量%。