| 发明名称 |
光罩及光阻图案的制作方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI354863 |
申请公布日期 |
2011.12.21 |
| 申请号 |
TW096113966 |
申请日期 |
2007.04.20 |
| 申请人 |
南亞科技股份有限公司 桃園縣龜山鄉華亞科技園區復興三路669號 |
发明人 |
吴元薰;傅国贵 |
| 分类号 |
G03F1/08;H01L21/027;G03F1/14 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种光罩，包括：一基板，该基板具有多个突出部，且相邻两该些突出部之间为具有一深度的一开口，该深度可使穿过该开口之光束的相位角等于180°；以及一遮蔽层，配置于部分该些突出部上，其中，未配置该遮蔽层于其上的该些突出部的侧壁具有一斜面，且未配置该遮蔽层于其上的该些突出部的上表面积小于下表面积。 |
| 地址 |
桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |
