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经营范围
发明名称
接触微影术装置、系统及方法
摘要
申请公布号
TWI354870
申请公布日期
2011.12.21
申请号
TW095128664
申请日期
2006.08.04
申请人
三星電子股份有限公司 南韓
发明人
史图瓦特 道坎R;吴威
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
一种接触微影术装置,包含:一罩幕,其具有一包含一微影图案之图案状区域;及一间隔件,其配置于该罩幕及一被图案化的基材之间,该间隔件系当该罩幕及该基材与该间隔件相互接触时提供该罩幕及该基材之一分开的平行且紧邻之定向,其中该罩幕、该基材及该间隔件之一或多者系可变形,故变形系有利于图案转移,该间隔件系附装至该基材上,该间隔件的一接触表面系易滑动于该罩幕及该基材的一者或两者之一接触表面上,可滑动性系由该等各别接触表面的一材料特征或藉由一施加至该等各别接触表面的低摩擦涂覆材料所提供。
地址
南韩
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