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经营范围
发明名称
氧气侦测剂试片与使用该试片之氧气侦测剂、以及氧气侦测试片之制造方法
摘要
申请公布号
TWI354788
申请公布日期
2011.12.21
申请号
TW094126187
申请日期
2005.08.02
申请人
保德科技股份有限公司 日本
发明人
儿玉隆一;远藤弘;和田敏孝;田中茂
分类号
G01N31/00;G01N31/22
主分类号
G01N31/00
代理机构
代理人
洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项
一种氧气侦测剂试片,其特征为:于内填赋予耐光性之非晶质二氧化矽之片状担体上载持氧气侦测液所构成,且,对于该片状担体,该非晶质二氧化矽的内填量为5~50重量%。
地址
日本
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