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经营范围
发明名称
半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号
TWI355090
申请公布日期
2011.12.21
申请号
TW093129836
申请日期
2004.10.01
申请人
大見忠弘 日本
发明人
大见忠弘;森本明大
分类号
H01L29/94
主分类号
H01L29/94
代理机构
代理人
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼
主权项
一种半导体装置,在包含金属基体的金属基板上设有半导体层,且在该半导体层上形成元件之至少一部分,其中,具有矽化物层形成作为将该金属基板与该半导体层接合之接合层,用以将该金属基板与该半导体层贴合,且该金属基板包含:由第1金属Cu构成的金属基体;扩散防止层,系防止构成该金属基体的该第1金属Cu朝半导体层中扩散,而由在该金属基板之表面形成的TaN或TaSiN所构成;及连接金属层,由形成在已形成有该扩散防止层的该金属基体整面,并用以将该金属基板与该半导体层电性连接的第2金属Ni所构成。
地址
日本
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