| 发明名称 | 一种薄膜、图案层及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种图案层及其制造方法。该图案层的制造方法包括：在基板上进行镀膜，同时控制镀膜参数随时间变化，以在基板上形成膜质随镀膜厚度变化的薄膜；对薄膜进行蚀刻，使得薄膜的侧向蚀刻速率随膜质变化，进而形成具有预定曲率的侧面的图案层。本发明还提供了一种薄膜。通过上述方式，能够通过膜质变化来控制薄膜的侧向蚀刻速率。 | ||
| 申请公布号 | CN102290336A | 申请公布日期 | 2011.12.21 |
| 申请号 | CN201110280028.1 | 申请日期 | 2011.09.20 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 郑文达 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L23/50(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人 | 何青瓦;丁建春 |
| 主权项 | 一种图案层的制造方法，其特征在于，所述图案层的制造方法包括：在基板上进行镀膜，同时控制镀膜参数随时间变化，以在所述基板上形成膜质随镀膜厚度变化的薄膜；对所述薄膜进行蚀刻，使得所述薄膜的侧向蚀刻速率随所述膜质变化，进而形成具有预定曲率的侧面的图案层。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市光明新区公明办事处塘家社区观光路汇业科技园综合楼1第一层B区 | ||