发明名称 |
一种精密电路保洁剂及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种精密电路保洁剂,包含以下质量百分比的组成成分:聚乙二醇辛基苯醚1~20%,壬基酚聚氧乙烯醚1~20%,C5H2F10 30~40%,C3HCl2F5 5~10%,硅油1~3%,C2Cl3H3 10~20%。本发明还提供该精密电路保洁剂的制备方法,包括以下步骤:将上述各组分按比例装入密闭容器,在温度为20~30℃,常压下反应1小时。本保洁剂无环境污染,腐蚀性低,物理分解能力强,使用安全可靠,可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子,有效消除“软性故障”,保证设备的最佳工作状态,降低维护成本。 |
申请公布号 |
CN101629126B |
申请公布日期 |
2011.12.21 |
申请号 |
CN200810043642.4 |
申请日期 |
2008.07.18 |
申请人 |
张思平 |
发明人 |
张思平 |
分类号 |
C11D1/66(2006.01)I;C11D3/37(2006.01)I;C11D3/20(2006.01)I;C11D3/24(2006.01)I;C11D3/18(2006.01)I |
主分类号 |
C11D1/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海三和万国知识产权代理事务所 31230 |
代理人 |
刘立平 |
主权项 |
一种精密电路保洁剂,其特征在于,按以下质量百分比的组成成分为:聚乙二醇辛基苯醚1~20%,壬基酚聚氧乙烯醚1~20%,C5H2F1030~40%,C3HCl2F55~10%,硅油1~3%,C2Cl3H3 10~20%;选自以下组分的一种或多种:低级烷烃、具有碳原子数为1~4的烷基取代基的低级烷烃、低级醇类、低级烯烃;所述低级烷烃为庚烷0~1%、己烷0~1%、辛烷0~1%;所述具有碳原子数为1~4的烷基取代基的低级烷烃为甲基戊烷0~1%、甲基己烷0~1%、二甲基己烷0~1%、甲基庚烷0~1%、甲基环己烷0~1%、乙基戊烷0~1%、二甲基环戊烷0~1%、四甲基丁烷0~1%、甲基乙基己烷0~1%、三甲基戊烷0~1%;所述低级醇类为乙醇0~1%;所述低级烯烃为乙烯0~1%;各组份含量之和为100%。 |
地址 |
200030 上海市徐汇区东安路149弄2号702室 |