发明名称 一种基于齐纳二极管的瞬态电压抑制器
摘要 本发明公开了一种基于齐纳二极管的瞬态电压抑制器,包括N衬底层,N衬底层上从左到右依次设有第一P+外延区、第二P+外延区、N+埋层、第四P+外延区、第五P+外延区;第二P+外延区和第四P+外延区上分别设有第一P-阱和第三P-阱;N+埋层上自底向上依次设有第三P+外延区、第二P-阱和第三N+有源注入区;第一P+外延区和第五P+外延区上分别设有第一P+有源注入区和第四P+有源注入区;第一P-阱和第三P-阱上分别设有对应的N+有源注入区和P+有源注入区。本发明通过采用齐纳二极管与低电容二极管的组合结构,进一步降低了TVS的寄生电容,可广泛应用于一些便携式设备和高速接口的静电防护上。
申请公布号 CN102290419A 申请公布日期 2011.12.21
申请号 CN201110244032.2 申请日期 2011.08.24
申请人 浙江大学 发明人 董树荣;吴健;苗萌;马飞
分类号 H01L27/08(2006.01)I 主分类号 H01L27/08(2006.01)I
代理机构 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人 胡红娟
主权项 一种基于齐纳二极管的瞬态电压抑制器,其特征在于:包括N衬底层,所述的N衬底层上从左到右依次设有第一隔离槽、第一P+外延区、第二隔离槽、第二P+外延区、第三隔离槽、N+埋层、第四隔离槽、第四P+外延区、第五隔离槽、第五P+外延区、第六隔离槽;所述的第二P+外延区和第四P+外延区上分别设有第一P‑阱和第三P‑阱;所述的N+埋层上自底向上依次设有第三P+外延区、第二P‑阱和第三N+有源注入区;所述的第一P+外延区和第五P+外延区上分别设有第一P+有源注入区和第四P+有源注入区;所述的第一P‑阱上左右分别设有第一N+有源注入区和第二P+有源注入区;所述的第三P‑阱上左右分别设有第三P+有源注入区和第二N+有源注入区;所述的第一P+有源注入区和第一N+有源注入区通过第一金属电极相连;所述的第四P+有源注入区和第二N+有源注入区通过第二金属电极相连;所述的第二P+有源注入区、第三P+有源注入区和第三N+有源注入区通过接地电极相连;所述的N衬底层的底部设有电源电极。
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