发明名称 | 一种基于齐纳二极管的瞬态电压抑制器 | ||
摘要 | 本发明公开了一种基于齐纳二极管的瞬态电压抑制器,包括N衬底层,N衬底层上从左到右依次设有第一P+外延区、第二P+外延区、N+埋层、第四P+外延区、第五P+外延区;第二P+外延区和第四P+外延区上分别设有第一P-阱和第三P-阱;N+埋层上自底向上依次设有第三P+外延区、第二P-阱和第三N+有源注入区;第一P+外延区和第五P+外延区上分别设有第一P+有源注入区和第四P+有源注入区;第一P-阱和第三P-阱上分别设有对应的N+有源注入区和P+有源注入区。本发明通过采用齐纳二极管与低电容二极管的组合结构,进一步降低了TVS的寄生电容,可广泛应用于一些便携式设备和高速接口的静电防护上。 | ||
申请公布号 | CN102290419A | 申请公布日期 | 2011.12.21 |
申请号 | CN201110244032.2 | 申请日期 | 2011.08.24 |
申请人 | 浙江大学 | 发明人 | 董树荣;吴健;苗萌;马飞 |
分类号 | H01L27/08(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/08(2006.01)I |
代理机构 | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人 | 胡红娟 |
主权项 | 一种基于齐纳二极管的瞬态电压抑制器,其特征在于:包括N衬底层,所述的N衬底层上从左到右依次设有第一隔离槽、第一P+外延区、第二隔离槽、第二P+外延区、第三隔离槽、N+埋层、第四隔离槽、第四P+外延区、第五隔离槽、第五P+外延区、第六隔离槽;所述的第二P+外延区和第四P+外延区上分别设有第一P‑阱和第三P‑阱;所述的N+埋层上自底向上依次设有第三P+外延区、第二P‑阱和第三N+有源注入区;所述的第一P+外延区和第五P+外延区上分别设有第一P+有源注入区和第四P+有源注入区;所述的第一P‑阱上左右分别设有第一N+有源注入区和第二P+有源注入区;所述的第三P‑阱上左右分别设有第三P+有源注入区和第二N+有源注入区;所述的第一P+有源注入区和第一N+有源注入区通过第一金属电极相连;所述的第四P+有源注入区和第二N+有源注入区通过第二金属电极相连;所述的第二P+有源注入区、第三P+有源注入区和第三N+有源注入区通过接地电极相连;所述的N衬底层的底部设有电源电极。 | ||
地址 | 310027 浙江省杭州市西湖区浙大路38号 |