发明名称 | 荧光检测装置及荧光检测方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种能够提高荧光弛豫时间的测量精度的荧光检测装置及荧光检测方法,该装置包括:激光光源部,向所述测量对象物照射激光;受光部,输出测量对象物受到激光照射后发出的荧光的荧光信号;光源控制部,生成将从激光光源部发射的激光强度用至少两个频率成分进行时间调制的调制信号;处理部,使用从受光部输出的荧光信号和调制信号,求出测量对象物的荧光的荧光弛豫时间,其中,处理部求出相对于至少两个频率成分的调制信号的荧光信号的相位滞后,利用相位滞后求出各频率成分的荧光弛豫时间,通过对荧光弛豫时间进行加权平均来求出平均荧光弛豫时间。 | ||
申请公布号 | CN102292630A | 申请公布日期 | 2011.12.21 |
申请号 | CN201080005461.8 | 申请日期 | 2010.01.25 |
申请人 | 三井造船株式会社 | 发明人 | 林弘能 |
分类号 | G01N21/64(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/64(2006.01)I |
代理机构 | 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 | 代理人 | 于淼;张一军 |
主权项 | 一种荧光检测装置,接收测量对象物受到激光照射后发出的荧光,并对此时所得到的荧光信号进行信号处理,其特征在于,包括:激光光源部,向所述测量对象物照射激光;受光部,输出所述测量对象物受到所述激光照射后发出的荧光的荧光信号;光源控制部,生成将从所述激光光源部发射的激光强度用至少两个频率成分进行时间调制的调制信号;处理部,使用从所述受光部输出的荧光信号和所述调制信号,求出所述测量对象物的荧光的荧光弛豫时间,其中,所述处理部求出相对于所述至少两个频率成分的所述调制信号的所述荧光信号的相位滞后,利用所述相位滞后求出各频率成分的荧光弛豫时间,通过对所述荧光弛豫时间进行加权平均来求出平均荧光弛豫时间。 | ||
地址 | 日本东京都 |