发明名称 |
复合光子筛投影式光刻系统 |
摘要 |
本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种复合光子筛投影式光刻系统,该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底,其中:照明系统,用于产生入射光,并将该入射光照射至掩模板;掩模板,用于提供复合光子筛成像的物方,入射光透过掩模板后被照射至复合光子筛;复合光子筛,用于实现成像功能,将掩模板上的图形在衬底上成像;衬底,用于接收复合光子筛对掩模板上图形所成的像。利用本发明,由于采用复合光子筛代替传统投影式光刻系统中的投影物镜,不仅能够保留传统投影式光刻系统效率高的优点,实现快速的大批量光刻,提高光刻效率,而且可以有效地降低成本,减小系统体积。 |
申请公布号 |
CN102289157A |
申请公布日期 |
2011.12.21 |
申请号 |
CN201110234020.1 |
申请日期 |
2011.08.16 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
谢常青;高南;华一磊;朱效立;李海亮;史丽娜;李冬梅;刘明 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F5/18(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
一种复合光子筛投影式光刻系统,其特征在于,该系统包括依次放置的照明系统(1)、掩模板(2)、复合光子筛(3)和衬底(4),其中:照明系统(1),用于产生入射光,并将该入射光照射至掩模板(2);掩模板(2),用于提供复合光子筛(3)成像的物方,入射光透过掩模板(2)后被照射至复合光子筛(3);复合光子筛(3),用于实现成像功能,将掩模板(2)上的图形在衬底(4)上成像;衬底(4),用于接收复合光子筛(3)对掩模板(2)上图形所成的像。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |