| 发明名称 | 一种应用于晶片扩散掺杂的固定装置 | ||
| 摘要 | 一种应用于晶片扩散掺杂的固定装置，该装置形状为薄长方体，所述装置包括石墨舟(1)、晶片固定区(2)、扩散材料放置区(3)和相互嵌套的上固定沿(4)和下固定沿；石墨舟(1)为一长方形平面凹台，边沿为上固定沿，石墨舟上固定沿(4)内框稍大于所述装置底部下凸沿的长方形尺寸，石墨舟上固定沿的深度大于所述装置底部的下凸沿的高度；晶片固定区(2)是设在石墨舟平面凹台上的圆形凹台，多个晶片固定区合理安排在石墨舟平面凹台上；扩散材料放置区(3)是设在石墨舟凹台上的小圆形凹槽，多个扩散材料放置区分布在石墨舟平面凹台上晶片固定区之间的空余位置。本实用新型可应用于大规模半导体表面扩散掺杂的生产。 | ||
| 申请公布号 | CN202084521U | 申请公布日期 | 2011.12.21 |
| 申请号 | CN201120221623.3 | 申请日期 | 2011.06.28 |
| 申请人 | 江西联创光电科技股份有限公司 | 发明人 | 万金平;涂小昆;何民华;任强 |
| 分类号 | H01L21/673(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;C30B31/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/673(2006.01)I |
| 代理机构 | 南昌市平凡知识产权代理事务所 36122 | 代理人 | 姚伯川 |
| 主权项 | 一种应用于晶片扩散掺杂的固定装置，其特征在于，所述装置形状为薄长方体，所述装置包括石墨舟、晶片固定区、扩散材料放置区和相互嵌套的上、下固定沿；石墨舟为一长方形平面凹台，边沿为上固定沿，石墨舟上固定沿内框稍大于所述装置底部的长方形凸沿尺寸，石墨舟上固定沿的深度大于所述装置底部的凸沿的高度；晶片固定区是设在石墨舟平面凹台上的圆形凹台，多个晶片固定区合理安排在石墨舟平面凹台上；扩散材料放置区是设在石墨舟凹台上的小圆形凹槽，多个扩散材料放置区分布在石墨舟平面凹台上晶片固定区之间的空余位置。 | ||
| 地址 | 330096 江西省南昌市高新开发区京东大道168号 | ||