基座以及包括该基座的化学气相沉积装置

摘要

本发明提供一种基座以及包括该基座的化学气相沉积(CVD)装置。该基座具有包括孔的盘形并且包括：多个凹穴，形成在基座的上表面中以容纳沉积靶；和基座通道，形成在基座中以将流动气体供应到多个凹穴。基座通道的入口形成在孔的侧壁中。替换地，基座通道的入口形成在基座的下表面中，并且进一步形成增强单元。

主权项

一种用于化学气相沉积装置的基座，所述基座具有包括孔的盘形并且包括：多个凹穴，形成在所述基座的上表面中以容纳沉积靶；和基座通道，形成在所述基座中以将流动气体供应到所述多个凹穴，其中所述基座通道的入口形成在所述孔的侧壁中。