发明名称 面形自适应回转轴对称光学元件抛光装置
摘要 面形自适应回转轴对称光学元件抛光装置,涉及一种光学元件抛光装置。设有连接轴、底盘、永磁体、磁流变液槽、工作台、区域磁场调节装置以及嵌入式控制装置;所述连接轴一端通过键连接固定在底盘上表面,连接轴另一端与机床抛光旋转轴连接;底盘下表面设有工件固定台、永磁体座以及导轨,工件倒置固定在工件固定台上,永磁体座固定在导轨上,所述永磁体固定在永磁体座上;载有磁流变液的磁流变液槽置于工作台上方,抛光时,将工件浸入磁流变液内;所述区域磁场调节装置固定在工作台内,区域磁场调节装置布满工作台内部;所述工作台底面中心设有导线通孔,区域磁场调节装置内连接线圈的导线穿过导线通孔与嵌入式控制装置连接。
申请公布号 CN102284890A 申请公布日期 2011.12.21
申请号 CN201110288028.6 申请日期 2011.09.26
申请人 厦门大学 发明人 郭隐彪;潘日;王振忠;姜晨
分类号 B24B1/00(2006.01)I 主分类号 B24B1/00(2006.01)I
代理机构 厦门南强之路专利事务所 35200 代理人 马应森
主权项 面形自适应回转轴对称光学元件抛光装置,其特征在于设有连接轴、底盘、永磁体、磁流变液槽、工作台、区域磁场调节装置以及嵌入式控制装置;所述连接轴一端通过键连接固定在底盘上表面,连接轴另一端与机床抛光旋转轴连接;底盘下表面设有工件固定台、永磁体座以及导轨,工件倒置固定在工件固定台上,永磁体座固定在导轨上,所述永磁体固定在永磁体座上;载有磁流变液的磁流变液槽置于工作台上方,抛光时,将工件浸入磁流变液内;所述区域磁场调节装置固定在工作台内,区域磁场调节装置布满工作台内部;所述工作台底面中心设有导线通孔,区域磁场调节装置内连接线圈的导线穿过导线通孔与嵌入式控制装置连接。
地址 361005 福建省厦门市思明南路422号