| 发明名称 | 光生酸剂、其制备方法以及含有该光生酸剂的抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光生酸剂、其制备方法、以及包含该光生酸剂的抗蚀剂组合物。该光生酸剂是由下式1表示的化合物：[式1]<img file="dsa00000494432800011.GIF" wi="955" he="192" />其中，在式1中，Y表示选自被芳基取代的烷基和芳香族烃基中的任一种；Q<sub>1</sub>和Q<sub>2</sub>各自独立地表示卤素原子；X表示选自烷烃二基、烯烃二基、NR′、S、O、CO及其组合中的任一种；R′表示选自氢原子和烷基中的任一种；n表示0至5的整数；且A+表示有机反离子。该光生酸剂在曝光时能够产生酸，所述酸具有低的扩散速率，具有短的扩散距离，且显示适当程度的酸度，从而能够改善线宽粗糙度(LWR)特性，并且能够控制其在处理中所用的诸如纯水的溶剂中的洗脱。 | ||
| 申请公布号 | CN102289149A | 申请公布日期 | 2011.12.21 |
| 申请号 | CN201110122341.2 | 申请日期 | 2011.05.09 |
| 申请人 | 锦湖石油化学株式会社 | 发明人 | 金真湖;徐东辙;任铉淳;洪容和 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01)I;C07C381/12(2006.01)I;C07C309/12(2006.01)I;C07C303/32(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/004(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 吴小瑛;任晓华 |
| 主权项 | 1.一种光生酸剂，其由下式1表示：[式1]<img file="FSA00000494432900011.GIF" wi="956" he="189" />其中，在式1中，Y表示选自被芳基取代的烷基和单环或多环芳香族烃基中的任一种；Q<sub>1</sub>和Q<sub>2</sub>各自独立地表示卤素原子；X表示选自烷烃二基、烯烃二基、NR′、S、O、CO及其组合中的任一种，其中R′表示选自氢原子和烷基中的任一种；n表示0至5的整数；且A+表示有机反离子。 | ||
| 地址 | 韩国首尔市 | ||