发明名称 |
一种弯曲形压电单晶片的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种弯曲形压电单晶片的制备方法,该方法是首先选取基底材料,按所需尺寸切割;然后制作弯曲模具,采用冲压加工工艺,制得具有所需弯曲度和弯曲形状的基底材料;采用粘结剂将已极化的压电材料粘接在弯曲的基底材料的凸面上;将样品放入四角带定位孔的两平行金属板之间,施加压力,使弯曲基底材料的下表面与金属板完全接触,再用螺钉固定金属板;放入烘箱中固化;最后自然冷却至室温后取出即可。本发明的制备方法可以在低温下操作,最高制备温度只有100℃,且不需要对压电材料进行二次极化,还可以根据需要改变基底材料的弯曲度和弯曲形状。 |
申请公布号 |
CN102290527A |
申请公布日期 |
2011.12.21 |
申请号 |
CN201110283540.1 |
申请日期 |
2011.09.22 |
申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
罗豪甦;许春东;王东;任博;赵祥永;徐海清;林迪;王升;狄文宁;李晓兵;梁柱 |
分类号 |
H01L41/22(2006.01)I |
主分类号 |
H01L41/22(2006.01)I |
代理机构 |
上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 |
代理人 |
何葆芳 |
主权项 |
一种弯曲形压电单晶片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:a)选取基底材料,按所需尺寸切割;b)制作弯曲模具,采用冲压加工工艺,制得具有所需弯曲度和弯曲形状的基底材料;c)采用粘结剂将弯曲的基底材料粘接在已极化的压电材料的凸面上;d)将样品放入四角带定位孔的两平行金属板之间,施加压力,使弯曲基底材料的下表面与金属板完全接触,再用螺钉固定金属板;e)放入烘箱中固化;f)自然冷却至室温后取出即可。 |
地址 |
200050 上海市长宁区定西路1295号 |