发明名称 |
一种KNN基压电织构厚膜的制备方法 |
摘要 |
本发明属于无铅压电材料领域,涉及一种无铅压电织构厚膜及其制备方法。本发明的无铅压电织构厚膜的制备方法,包括下列步骤:制备基料;制备模板;将模板与基料按一定的比例配料置于研钵中进行研磨,加入配好的粘结剂后继续研磨制得浆料;把浆料进行丝网印刷获得膜片;将膜片切割后进行等静压;热处理后获得取向良好的无铅压电织构厚膜。本发明的制备方法所获得K0.5Na0.5NbO3基压电织构厚膜具有良好的取向度,有利于器件小型化、片式化的发展。 |
申请公布号 |
CN102285797A |
申请公布日期 |
2011.12.21 |
申请号 |
CN201110153079.8 |
申请日期 |
2011.06.09 |
申请人 |
同济大学 |
发明人 |
翟继卫;付芳 |
分类号 |
C04B35/495(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I |
主分类号 |
C04B35/495(2006.01)I |
代理机构 |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人 |
许亦琳;余明伟 |
主权项 |
一种K0.5Na0.5NbO3基压电织构厚膜的制备方法,包括如下步骤:(1)制备基料:制备K0.5Na0.5NbO3基粉体基料;(2)制备模板:采用熔盐法制备NaNbO3片状粉体模板;(3)将所述NaNbO3片状粉体模板和K0.5Na0.5NbO3基粉体基料混配并研磨2‑3小时,混合均匀后加入配好的粘结剂并继续研磨30‑60分钟,获得浆料;(4)将步骤(3)获得的浆料在带有Ag‑Pd底电极的氧化铝衬底上进行丝网印刷,获得印刷后的膜片,将印刷后的膜片烘干,再重复丝网印刷和烘干步骤3‑8次,得到厚度为25‑70μm的生坯,将生坯依次进行等静压处理、热处理后获得厚度为20‑50μm的K0.5Na0.5NbO3基压电织构厚膜。 |
地址 |
200092 上海市杨浦区四平路1239号 |