发明名称 显示器件及其制造方法
摘要 本发明揭示一种显示器件及其制造方法。一般希望在显示器件中将低电阻材料用于配线,但是到现在为止没有存在形成配线的有效方法。本发明的结构之一包括以下工序:形成第一导电膜;在第一导电膜上选择性地形成抗蚀剂;在第一导电膜及抗蚀剂上形成第二导电膜;在去除抗蚀剂的同时去除形成在抗蚀剂上的第二导电膜;形成第三导电膜,使其覆盖形成在第一导电膜上的第二导电膜;选择性地蚀刻第一导电膜及第三导电膜;形成多个布线及电极。由此,由于可以在大型面板中形成用低电阻材料的布线,因此可以解决信号延迟等问题。
申请公布号 CN102290432A 申请公布日期 2011.12.21
申请号 CN201110170657.9 申请日期 2006.11.16
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 藤川最史;细谷邦雄
分类号 H01L27/32(2006.01)I;H01L51/05(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I 主分类号 H01L27/32(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 钱慰民
主权项 一种显示器件,其特征在于,包括:半导体膜;栅极布线;在所述半导体膜和所述栅极布线之间的栅极绝缘膜;以及与所述半导体膜电连接的源极或漏极布线,所述栅极布线的第一部分包括:第一导电膜和形成在所述第一导电膜之上的第二导电膜,其中所述第一导电膜的整个上表面与所述第二导电膜接触,并且所述栅极布线的第二部分包括:所述第一导电膜;选择性地形成在所述第一导电膜上的第三导电膜;以及形成所述第二导电膜,使其覆盖所述第三导电膜。
地址 日本神奈川县