发明名称 |
薄膜晶体管的制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种薄膜晶体管的制备方法,包括以下步骤:提供一绝缘基底;形成一碳纳米管层于所述绝缘基底表面,所述碳纳米管层包括多个碳纳米管,进而形成一半导体层;间隔形成一源极及一漏极于所述半导体层表面,并使该源极及漏极与上述半导体层中的部分碳纳米管的两端电连接;形成一绝缘层于所述形成有源极和漏极的半导体层表面;以及形成一栅极于所述绝缘层表面,得到一薄膜晶体管。 |
申请公布号 |
CN101587839B |
申请公布日期 |
2011.12.21 |
申请号 |
CN200810067425.9 |
申请日期 |
2008.05.23 |
申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
李群庆;王雪深;姜开利;范守善 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种薄膜晶体管的制备方法,包括以下步骤:提供一绝缘基底;在所述绝缘基底上生长一带状碳纳米管阵列,处理所述带状碳纳米管阵列,使该带状碳纳米阵列沿垂直于该带状碳纳米管阵列长度的方向倾倒,从而在该绝缘基底表面形成一包括多个碳纳米管的半导体层;间隔形成一源极及一漏极于所述半导体层表面,并使该源极及漏极与上述半导体层中的部分碳纳米管的两端电连接;形成一绝缘层于所述形成有源极和漏极的半导体层表面;以及形成一栅极于所述绝缘层表面,得到一薄膜晶体管。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |