发明名称 一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法
摘要 一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法,该方法是在制备太阳电池后,在太阳电池前表面利用掩模对主栅线金属电极进行覆盖,在未被掩模覆盖的区域进行二次镀膜,制备保护细栅线金属电极的介质层,形成介质层-细栅线金属电极-钝化层结构。本发明方法可保护细栅线金属电极不易氧化,主栅线金属电极进行正常焊条连接;通过优化钝化层,可以增强前表面的钝化效果;通过调控介质层,可降低太阳电池前表面的反射率和实现颜色调控;通过改变掩模图案,可在电池前表面显示汉字、数字及图形等,且二次镀膜方法便与现有晶体硅太阳电池制备工艺对接,易于产业化。
申请公布号 CN101834230B 申请公布日期 2011.12.21
申请号 CN201010168604.9 申请日期 2010.04.30
申请人 中山大学 发明人 沈辉;陈奕峰;许欣翔;梁学勤
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 广州知友专利商标代理有限公司 44104 代理人 李海波
主权项 一种采用掩模制备保护太阳电池细栅线金属电极的彩色薄膜的方法,其特征在于,在太阳电池的前表面形成钝化层,再在钝化层上形成细栅线金属电极和主栅线金属电极之后,利用掩模对主栅线金属电极进行覆盖,在未被掩模覆盖的区域进行二次镀膜,制备保护细栅线金属电极的介质层,形成介质层‑细栅线金属电极‑钝化层结构。
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