| 摘要 |
1. Установка для ионно-плазменной обработки длинномерных изделий с изолированной эмиссионной камерой, содержащая вакуумную камеру с расположенными в ней длинномерными катодами, функционально являющимися электродуговыми источниками плазмы для нанесения покрытия, источники питания вакуумно-дугового разряда и эмиттера электронов, держатель изделия с изолированным токоподводом и источник нагрева изделий, отличающаяся тем, что источник нагрева изделий выполнен в виде дополнительной изолированной посредством изолированных экранов и изоляторов эмиссионной камеры, соединенной с вакуумной камерой посредством перфорированной перегородки, с расположенным внутри нее, то есть внутри эмиссионной камеры, длинномерным катодом источника металлической плазмы, при этом отверстия перфорации расположены вдоль продольной оси катода, а источник питания источника нагрева изделий соединен отрицательным полюсом с эмиссионной камерой, а положительным подключен к держателю изделий или катоду металлической плазмы и к катоду эмиттера электронов. ! 2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что количество и размер отверстий перегородки выполнены с возможностью обеспечения регламентированных технологических режимов химико-термической обработки. |
