Plasmastempel, Plasmabehandlungsvorrichtung, Verfahren zur Plasmabehandlung und Herstellungsverfahren für einen Plasmastempel

摘要

Plasmastempel mit einer Gasleitschicht (4), welche zumindest ein poröses Material aufweist oder daraus besteht, sowie mit zumindest einer Kavität (2), welche mit der Gasleitschicht (4) in gasdurchlässiger Verbindung steht und welche eine Öffnung zu einer Unterseite (3) des Plasmastempels aufweist, wobei Gas im Bereich hinter der Öffnung der Kavität (2) in Richtung parallel zur Fläche der Öffnung durch die Gasleitschicht (4) leitbar ist, gekennzeichnet durch eine gasundurchlässige Schicht (5) auf jener der Unterseite des Plasmastempels abgewandten Seite der Gasleitschicht.