| 发明名称 | 使用羟磷灰石层析除去高分子量聚集体 | ||
| 摘要 | 本发明涉及羟磷灰石层析在从含有高分子量聚集体的制剂纯化至少一种抗体的应用。此外，本发明涉及陶瓷羟磷灰石层析整合到组合层析方案用于从抗体制剂除去高分子量聚集体。 | ||
| 申请公布号 | CN102276717A | 申请公布日期 | 2011.12.14 |
| 申请号 | CN201110221442.5 | 申请日期 | 2004.10.06 |
| 申请人 | 惠氏公司 | 发明人 | S·孙;C·加洛;B·凯利 |
| 分类号 | C07K16/00(2006.01)I;C07K1/16(2006.01)I;C07K1/18(2006.01)I;C07K1/22(2006.01)I | 主分类号 | C07K16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 张萍;刘健 |
| 主权项 | 一种从含有高分子量聚集体的抗体制剂纯化至少一种抗体的方法，其包括：使羟磷灰石树脂接触溶于包含1至20mM磷酸钠和0.2至2.5MNaCl的加样缓冲液中的抗体制剂并允许纯化的抗体流过所述树脂。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||