发明名称 | 无残留胶痕的保护膜 | ||
摘要 | 一种无残留胶痕的保护膜,包括:一保护膜,被成型为对应所要贴覆的产品的表面轮廓形状;数个背胶材料,该背胶材料具有相对的第一面与第二面,该第一面与第二面均设有胶质,该二背胶材料借由所述第一面的胶质分别黏贴于该保护膜一面至少相对两侧;数个膜片,分别借由该背胶材料第二面的胶质将该膜片黏贴于该背胶材料的第二面,且该膜片不完全遮蔽该胶质,借以在该膜片表面、背胶材料表面与保护膜表面之间形成厚度落差。本实用新型贴覆作业快速,不会在保护膜与产品表面之间产生残胶、气泡、白雾状等缺点,具有良好的防止刮伤等经济效益,可节省胶料。 | ||
申请公布号 | CN202072656U | 申请公布日期 | 2011.12.14 |
申请号 | CN201120025068.7 | 申请日期 | 2011.01.26 |
申请人 | 林佳璇 | 发明人 | 林佳璇 |
分类号 | C09J7/02(2006.01)I | 主分类号 | C09J7/02(2006.01)I |
代理机构 | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人 | 郑永康 |
主权项 | 一种无残留胶痕的保护膜,其特征在于,包括:一保护膜,被成型为对应所要贴覆的产品的表面轮廓形状;数个背胶材料,该背胶材料具有相对的第一面与第二面,该第一面与第二面均设有胶质,该二背胶材料借由所述第一面的胶质分别黏贴于该保护膜一面至少相对两侧;数个膜片,分别借由该背胶材料第二面的胶质将该膜片黏贴于该背胶材料的第二面,且该膜片不完全遮蔽该胶质,借以在该膜片表面、背胶材料表面与保护膜表面之间形成厚度落差。 | ||
地址 | 中国台湾新北市 |