| 摘要 |
Durchlauf-Vakuumbehandlungsanlage mit einer ersten und einer zweiten Anlagenkammer, die über je einen Montageflansch vakuumdicht miteinander verbunden sind, die statisch bestimmte Versteifungselemente aufweisen, mit denen Wandungen, bestehend aus Kammerboden, Kammerwänden und Kammerdecke, verbunden sind, die einen Vakuumraum einschließen, mit Prozesssektionen und mit einer Substrate auf einer Transportebene in Längserstreckung der Vakuumbehandlungsanlage durch die Prozesssektionen hindurch bewegenden Transportvorrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Anlagenkammer (11) eine geschlossene Gestaltung aufweist, bei der die Versteifungselemente (4) innerhalb des Vakuumraumes (6) angeordnet sind und die zweite Anlagenkammer (12) eine offene Gestaltung aufweist, bei der die Versteifungselemente (4) außerhalb des Vakuumraumes (6) angeordnet sind, und eine der beiden Anlagenkammern (11; 12) einen zu der Gestaltung der jeweils anderen Anlagenkammer (12; 11) kompatiblen Montageflansch (14; 15) aufweist.
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