反应装置以及反应装置的制造方法

摘要

本发明提供一种反应装置，包括在内部具有流路的流路结构体，该流路具有：第一导入路径、第二导入路径、连接于所述第一导入路径的下游侧与所述第二导入路径的下游侧的合流路径、以及连接于该合流路径的下游侧的反应路径，所述流路结构体具有：基板；第一密封部件，以覆盖该基板的一个面的状态与该面接合；以及第二密封部件，以覆盖所述基板的另一个面的状态与该面接合，在所述基板的所述一个面上，形成有构成所述第一导入路径的第一导入沟，并且形成有构成所述反应路径的反应沟，另一方面，在所述基板的所述另一个面上，形成有构成所述第二导入路径的第二导入沟，在所述基板上设置有构成所述合流路径的合流孔，该合流孔在所述第一导入沟以及所述第二导入沟与所述反应沟之间从该基板的所述一个面向所述另一个面贯通并且连接这些导入沟的下游侧端部与反应沟的上游侧端部，所述反应沟中连接于所述合流孔的部分的深度比所述第一导入沟中连接于所述合流孔的部分的深度大。

主权项

一种反应装置，使第一反应剂与第二反应剂流动，并且使这些反应剂之间发生反应，其特征在于：包括：在内部具有流路的流路结构体，该流路具有，第一导入路径，导入所述第一反应剂；第二导入路径，导入所述第二反应剂；合流路径，连接于所述第一导入路径的下游侧与所述第二导入路径的下游侧，用于使流经所述第一导入路径的所述第一反应剂与流经所述第二导入路径的所述第二反应剂进行合流；以及反应路径，连接于该合流路径的下游侧，用于使在该合流路径中合流的所述两种反应剂流动并且使这些反应剂相互反应，所述流路结构体具有，基板；第一密封部件，以覆盖该基板的一个面的状态与该面接合；以及第二密封部件，以覆盖所述基板的另一个面的状态与该面接合，在所述基板的所述一个面上，形成有构成所述第一导入路径的第一导入沟，并且形成有构成所述反应路径的反应沟，另一方面，在所述基板的所述另一个面上，形成有构成所述第二导入路径的第二导入沟，在所述基板上设置有构成所述合流路径的合流孔，该合流孔在所述第一导入沟以及所述第二导入沟与所述反应沟之间从该基板的所述一个面向所述另一个面贯通并且连接这些导入沟的下游侧端部与反应沟的上游侧端部，所述反应沟中连接于所述合流孔的部分的深度比所述第一导入沟中连接于所述合流孔的部分的深度大。