发明名称 |
具有选择性发射极结构的晶体硅太阳电池 |
摘要 |
本实用新型涉及一种具有选择性发射极结构的晶体硅太阳电池,该电池包括背表面层、背电极、p++背场层,背场的上端是单晶硅或者多晶硅基片,基片的正面有绒面结构,绒面上有轻掺杂的发射极n+层,发射极的局部地区为重掺杂的n++层,发射极上覆盖一层介电薄膜,n++层的发射极上有金属电极部分穿过介电薄膜与硅相接触,而且n++层的宽度大于金属电极的宽度。本实用新型可以提高晶体硅太阳电池的光谱响应和钝化效果,提升电池的光电转换效率,且电池结构的设计使前电极与n++层二者的对位更易于实现,从而提高工业生产的成品率。 |
申请公布号 |
CN202076275U |
申请公布日期 |
2011.12.14 |
申请号 |
CN201120039142.0 |
申请日期 |
2011.02.15 |
申请人 |
中山大学 |
发明人 |
梁宗存;曾飞;沈辉 |
分类号 |
H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/04(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0352(2006.01)I |
代理机构 |
广州市一新专利商标事务所有限公司 44220 |
代理人 |
陈振华 |
主权项 |
一种具有选择性发射极结构的晶体硅太阳电池,其包括背表面层、背电极、背场、硅基片、正面电极,其特征是在硅基片(4)的背面由上至下依次设有背场(3)和背表面层(1),背电极(2)贯穿背表面层和背场并与硅基片相接触;硅基片的正面呈绒面结构,在硅基片绒面上依次设有发射极n+层(5)和介电薄膜层(7),在发射极的局部地区设有n++层(6),发射极上覆盖一层介电薄膜层(7),在n++层的发射极上设有正面电极(8),正面电极部分穿过介电薄膜层与硅基片接触,n++层的宽度大于正面电极的宽度。 |
地址 |
510275 广东省广州市海珠区新港西路135号 |