发明名称 清洁装置、处理单元以及图像形成装置
摘要 本发明涉及清洁装置、处理单元以及图像形成装置。本发明的目的在于提供一种能够以简单的结构来防止被清除后的附着物发生泄漏的清洁装置。该清洁装置的特征在于,具备压缩部件25,该压缩部件25在将端部密封件24装设到壳体21上时,按压并压缩端部密封件24中与装设到壳体21上的面24b相反一侧的面24a,同时,将伴随压缩而发生膨胀的端部密封件24中的面24c以压力接触于壳体21中与该端部密封件24中的面24c相对的面21e。
申请公布号 CN101639656B 申请公布日期 2011.12.14
申请号 CN200910161266.3 申请日期 2009.07.28
申请人 株式会社理光 发明人 川上善弘;大吉浩文;齐藤理
分类号 G03G21/10(2006.01)I;G03G15/01(2006.01)I 主分类号 G03G21/10(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 王冉;杨梧
主权项 用于清除附着在转动体表面上的附着物的清洁装置,其中包括:壳体,具有面对所述转动体的入口部;清洁部件,设于所述壳体的入口部,并与所述转动体表面接触,用以清除附着在该转动体表面上的附着物;入口密封件,用于防止被所述清洁部件清除的附着物从所述壳体入口部与所述转动体之间泄漏;以及,端部密封件,用于防止被所述清洁部件清除的附着物从所述清洁部件两端以及所述入口部密封件两端泄漏,其特征在于,具备压缩装置,用于在所述端部密封件装设到所述壳体上时,按压并压缩该端部密封件中与装设到所述壳体上的装设面相反一侧的面,同时,使伴随压缩而发生膨胀的端部密封件中的面以压力接触于壳体中与该发生膨胀的端部密封件中的面相对的面。
地址 日本东京都
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