发明名称 |
电子器件 |
摘要 |
本发明目的在于提供能高精度地获得电容元件的电容值的电子器件。该电子器件(1)具有形成在衬底(51)的平坦化层(52)上的下部导体(第1导体)(21)、形成在下部导体(21)上的介质膜(31)及形成在介质膜(31)上的、比下部导体(21)薄的上部导体(第2导体)(23)。电容元件(11)由下部导体(21)、介质膜(31)及上部导体(23)构成。 |
申请公布号 |
CN101067985B |
申请公布日期 |
2011.12.14 |
申请号 |
CN200710102992.9 |
申请日期 |
2007.05.08 |
申请人 |
TDK株式会社 |
发明人 |
桑岛一 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01G4/33(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
曾祥夌;陈景峻 |
主权项 |
一种电子器件,其特征在于,具有:形成在衬底上的第1导体;形成在所述第1导体上的介质膜;及形成在所述介质膜上且比所述第1导体薄的第2导体,电容元件由所述第1导体、所述第2导体及所述介质膜构成,设所述第1导体的厚度设为t1;所述第2导体的厚度设为t2;及所述第2导体的粒径设为x,则有t1>t2,x≤t2。 |
地址 |
日本东京 |