采用聚焦光刻成形亚波长微纳结构的制作方法

摘要

本发明提供一种采用聚焦光刻成形亚波长微纳结构的制作方法，其特征在于：首先选择合适的基底材料；在基底表面旋涂一层抗蚀剂；在抗蚀剂表面再蒸镀一层金属；然后运用微透镜列阵结构对该结构进行聚焦曝光；移走微透镜列阵结构，去掉金属层结构；对抗蚀剂进行显影，获得目标结构；最后对目标结构进行刻蚀，将结构传递到基底上；本发明通过在微透镜底层添加的金属层结构，对聚焦后的光场进行二次调制，进一步减小聚焦光斑的尺寸，因此可以进一步减小制作的目标结构的尺寸，为微纳结构的制作提供了很好的方法。

主权项

一种采用聚焦光刻成形亚波长微纳结构的制作方法，其特征在于如下步骤：(1)选择合适的基底材料；(2)在基底表面旋涂一层抗蚀剂；(3)在抗蚀剂表面再蒸镀一层金属层；所述金属层的材料为能够激发表面等离子体的金属金、银、铜或铝；(4)选择合适的微透镜列阵结构对步骤(3)所得结构进行聚焦曝光，通过调节曝光时间，利用激发出的表面等离子体在抗蚀剂内部形成需要的曝光能量分布；(5)曝光之后移走微透镜列阵结构，紧接着去掉金属层结构；(6)选择与抗蚀剂相匹配的显影液，对基底表面的抗蚀剂进行显影，获得目标结构；(7)对目标结构进行刻蚀，将结构传递到基底上。