DIANA DE PULVERIZACION CATODICA CON CAPA DE PULVERIZACION CATODICA LENTA BAJO EL MATERIAL DIANA.

摘要

Una diana (1)de pulverización catódica que comprende: un tubo (2) catódico giratorio que aloja por lo menos un imán en el mismo; una capa (4) de material diana que comprende uno o más de entre Sn y Zn dispuestos sobre la superficie exterior del tubo (2) catódico; una capa (3) de pulverización catódica lenta que se encuentra entre el tubo (2) catódico y la capa (4) de material diana a lo largo de una porción de la longitud del tubo catódico para reducir el riesgo de perforar por quemadura el tubo (2); en la que la capa (3) de pulverización catódica lenta tiene una tasa de pulverización catódica inferior a la de la capa (4) de material diana para iones de Ar; caracterizada porque la capa (3) de pulverización catódica lenta comprende uno o más de entre Ti, W, Nb y Ta.