发明名称 ID标记、ID卡和ID标签
摘要 作为非接触的ID标记,ID标签等被广泛使用,要求以很低的成本制造相当数量的ID标记。例如,要求附加到产品上的ID标记以每个1至几日元而制造,或者优选地少于1日元。因而,这种结构和工艺被要求以低成本大量地制造ID标记。在本发明的ID标记、ID卡和ID标签中所包含的薄膜集成电路器件,各包括诸如薄膜晶体管(TFT)的薄膜有源元件。因此,通过剥离在其上形成TFTs的衬底以分离元件,能够以低成本大量地制造ID标记等。
申请公布号 CN1910600B 申请公布日期 2011.12.14
申请号 CN200580002912.1 申请日期 2005.01.20
申请人 株式会社半导体能源研究所 发明人 荒井康行;秋叶麻衣;馆村祐子;神野洋平
分类号 G06K19/077(2006.01)I;G06K19/07(2006.01)I;G09F3/00(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;B42D15/10(2006.01)I 主分类号 G06K19/077(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王永刚
主权项 一种ID标记,包括:标记基底,在其上形成天线;薄膜集成电路器件,该薄膜集成电路器件包括薄膜晶体管并被设置成与该标记基底接触;分隔片;以及粘结剂,该粘结剂被提供在标记基底和分隔片之间,其中,所述薄膜集成电路器件的厚度为5微米或更小。
地址 日本神奈川