发明名称 用于形成突起的非氰类电解金电镀液
摘要 本发明公开了用于形成突起的非氰类电解金电镀液,其中含有作为金源的亚硫酸金碱盐或亚硫酸金铵、结晶调整剂、亚硫酸钾组成的传导盐5~150g/L、分子量200~6000的聚亚烷基二醇1mg/L~6g/L和/或两性表面活性剂0.1mg~1g/L、水溶性胺和/或缓冲剂。在图案化了的晶片上使用本发明的金电镀液进行了电解金镀后,通过5分钟以上在200~400℃的热处理,形成被膜硬度为50~90Hv,表面的高度差为1.8μm以下的突起。
申请公布号 CN101363128B 申请公布日期 2011.12.14
申请号 CN200810145867.0 申请日期 2008.08.07
申请人 美泰乐科技(日本)股份有限公司 发明人 中村裕树;井上晃一郎
分类号 C25D3/48(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H01L21/445(2006.01)I 主分类号 C25D3/48(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;祁建国
主权项 一种用于形成突起的非氰类电解金电镀液,其特征在于,其含有亚硫酸金碱盐或亚硫酸金铵、由Tl化合物、Pb化合物、或As化合物组成的结晶调整剂、仅由亚硫酸钾构成的传导盐10~150g/L、分子量200~6000的聚亚烷基二醇1mg/L~6g/L和/或从2‑烷基‑N‑羧基甲基‑N‑羟乙基咪唑鎓甜菜碱、月桂酰胺丙基羟基磺基甜菜碱、脂肪酸酰胺丙基甜菜碱、及脂肪酸酰基‑N‑羧乙基‑N‑羟乙基乙二胺碱盐中选择出的1种或2种以上的两性表面活性剂0.1mg~1g/L、水溶性胺和/或缓冲剂。
地址 日本东京