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经营范围
发明名称
PLASMA SOURCE APPARATUS FOR LARGE SIZE WAFER
摘要
申请公布号
KR101091556(B1)
申请公布日期
2011.12.13
申请号
KR20090045760
申请日期
2009.05.26
申请人
发明人
分类号
H05H1/46;H05H1/36
主分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
主权项
地址
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