| 摘要 |
<p>본 발명은 유기물 포토레지스트 교차패턴에 의해 배향이 제어된 블록공중합체의 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 리소그라피에 의해 형성된 유기물 포토레지스트 교차패턴의 높이차를 이용하여 블록공중합체의 배향을 제어함으로써 제조된 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 높이차가 있는 요철들로 구성되는 교차패턴에 의해 블록공중합체를 원하는 방향으로 원하는 만큼만 배향시킬 수 있어, 반도체 공정을 비롯한 실제 산업공정 적용시에 디바이스(device)의 성능저하를 방지할 수 있고, 원하는 형태로 배향된 블록공중합체를 제작할 수 있다.</p> |
