发明名称 METAL LAYER PATTERN STRUCTURE AND FORMING OF THE SAME
摘要 <p>금속막 구조물 및 이의 형성 방법에 있어서, 기판의 제1 면 및 제1 면에 대향하는 제2 면에 제1 감광막 패턴 및 제2 감광막 패턴을 각 형성한 후, 제1 및 제2 면들에 제1 전극층 및 제2 전극층을 각 형성한다. 제1 감광막 패턴 및 제1 감광막 패턴 상에 형성된 제1 전극층의 일부를 제거하여, 제1 면에 제1 전극층 패턴을 형성한 후, 제1 전극층 패턴을 감싸는 제1 금속막 패턴을 형성한다. 제2 감광막 패턴 및 제2 감광막 패턴 상에 형성된 제2 전극층의 일부를 제거하여, 제2 면에 제2 전극층 패턴을 형성한 후, 제2 전극층 패턴을 감싸는 제2 금속막 패턴을 형성한다. 따라서, 기판의 제1 및 제2면들에 금속막 구조물이 형성된다.</p>
申请公布号 KR101092989(B1) 申请公布日期 2011.12.12
申请号 KR20060119432 申请日期 2006.11.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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