用于碳层沉积之低温电浆沉积制程

主权项

一种于一工作件上沈积一碳层的方法，包含：将该工作件置于一反应器处理室中；将一含碳制程气体引入该处理室；藉由将电浆射频电源耦接至一再进入路径之一外部，于该再进入路径中形成一再进入环形射频电浆流，该再进入路径包括位于该工作件上方之一制程区域；将射频电浆偏压或偏压电压耦合至该工作件，藉以自该含碳制程气体将该碳层沉积于该工作件上；以及加热该沉积碳层。