图案化光阻层的形成方法,申请号TW096143771-传众专利搜索

发明名称	图案化光阻层的形成方法
摘要
申请公布号	TWI354318	申请公布日期	2011.12.11
申请号	TW096143771	申请日期	2007.11.19
申请人	聯華電子股份有限公司新竹市新竹科學工業園區力行二路3號	发明人	许德绍
分类号	H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人	郭晓文台北市中正区思源街18号A栋2楼
主权项	一种图案化光阻的形成方法，其适用于一基底，包括：于该基底上方进行一植入制程；进行一电浆表面处理制程；在该电浆表面处理制程之后进行一表面处理制程；在该表面处理制程之后于该基底上方形成一光阻层；以及图案化该光阻层。
地址	新竹市新竹科学工业园区力行二路3号