| 摘要 |
Реактор для термической обработки полупроводниковых пластин в газовой среде или вакууме, содержащий вакуумную камеру, источник инфракрасного излучения и средство поддержки полупроводниковой пластины в вакуумной камере, отличающийся тем, что корпус вакуумной камеры выполнен с двойными стенками из металла, пространство между стенками корпуса вакуумной камеры сообщено с источником подачи охлаждающей среды и магистралью ее отвода, в верхней части корпуса вакуумной камеры выполнено окно, которое закрыто пластиной из кварцевого стекла, герметично уплотненной относительно корпуса вакуумной камеры, источник инфракрасного излучения размещен над кварцевой пластиной, при этом в корпусе вакуумной камеры с нижней стороны полупроводниковой пластины установлен отражатель инфракрасного излучения, снабженный системой охлаждения. |
