发明名称 Plasma generation device plasma control method and substrate manufacturing method
摘要 <p>본 발명은 공간적으로 균일하고 고밀도의 플라즈마를 생성할 수 있는 플라즈마 생성장치를 제공하는 것을 목적으로 하여 이루어진 것이다. 이와 같은 목적은, 다음과 같이 구성함으로써 달성된다. 진공용기(11)의 측벽에 복수의 안테나(16)가 설치되고, 3∼4개의 안테나(16)에 대하여 1개의 고주파 전원이, 판 형상(板狀) 도체(plate-shaped conductor; 19)를 개재하여 병렬로 접속된다. 각 안테나(16)의 도체의 길이는, 진공용기 내에 생성되는 유도전자파의 파장의 1/4보다도 짧다. 안테나 도체의 길이를 이와 같이 함으로써, 정재파(定在波)가 생기는 것을 막고, 그로써 진공용기의 플라즈마의 균일성이 손상되는 것을 막을 수 있다. 또한, 판 형상 도체(19)를 이용함으로써 효율좋게 방열할 수 있기 때문에 임피던스의 상승을 억제할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101090726(B1) 申请公布日期 2011.12.08
申请号 KR20057011022 申请日期 2003.12.12
申请人 发明人
分类号 C23C14/54;G02F1/13;H01J37/32;H01L21/205;H05H1/46 主分类号 C23C14/54
代理机构 代理人
主权项
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