发明名称 In Rückwärtsrichtung sperrendes Halbleiterbauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
摘要 In Rückwärtsrichtung sperrendes Halbleiterbauteil umfassend: – eine Driftschicht (34) eines ersten Leitfähigkeitstyps; – eine MOS-Steuerelektrodenstruktur mit – einer Basisschicht (24) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die selektiv in der Vorderseite der Driftschicht (34) ausgebildet ist, – einer Emitterregion (32) des ersten Leitfähigkeitstyps, die selektiv in einem Oberflächenbereich der Basisschicht (24) ausgebildet ist, – einem Steuerelektroden-Isolierfilm, der einen Oberflächenbereich der Basisschicht (24) zwischen der Emitterregion (32) und der Driftschicht (34) überdeckt, und – einer Steuerelektrode (7), die auf dem Steuerelektroden-Isolierfilm gebildet ist; – eine Emitterelektrode (28) in Kontakt mit sowohl der Emitterregion (32) als auch der Basisschicht (24); – eine Trennisolierregion (31) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die die MOS-Steuerelektrodenstruktur über die Driftschicht (34) umgibt und sich über die gesamte Dicke der Driftschicht erstreckt; – eine Kollektorschicht (29) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die an der Rückseite der Driftschicht (34) ausgebildet ist und Verbindung zur Rückseite der Trennisolierregion...
申请公布号 DE102004017723(B4) 申请公布日期 2011.12.08
申请号 DE200410017723 申请日期 2004.04.10
申请人 FUJI ELECTRIC CO., LTD 发明人 NEMOTO, MICHIO;TAKEI, MANABU;NAITO, TATSUYA
分类号 H01L29/739;H01L21/331;H01L29/06 主分类号 H01L29/739
代理机构 代理人
主权项
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