发明名称 METHOD FOR IMPROVING CD MEASUREMENT ERROR DUE TO MASK AND MEASURING APPARATUS FOR ACCOMPLISHING THE SAME
摘要 <p>본 발명은 마스크의 CD 측정 에러 개선 방법 및 이를 수행하기 위한 측정 장치에 관한 것으로, 상부를 향하도록 배치되는 렌즈부와, 상기 렌즈부의 상부에 이격 배치되며, 상기 렌즈부의 초점 위치에 라이트 포커싱 되는 조명부와, 상기 렌즈부와 상기 조명부 사이에 배치되되, 상기 렌즈부의 초점 위치에 배치되는 마스크 지지용 스페이서를 포함하여, 마스크의 두께에 관계없이, 상기 렌즈부 및 상기 조명부의 초점 위치에 상기 마스크의 패턴층이 위치되도록 하여, 라이트 포커싱 포지션 에러가 방지될 수 있도록 하는 발명에 관한 것이다.</p>
申请公布号 KR101090624(B1) 申请公布日期 2011.12.08
申请号 KR20100010232 申请日期 2010.02.04
申请人 发明人
分类号 G01B11/24;H01L21/027 主分类号 G01B11/24
代理机构 代理人
主权项
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