发明名称 一种用于磁敏传感器的磁性纳米多层膜及其制造方法
摘要 本发明提供一种用于磁敏传感器的磁性纳米多层膜及其制造方法,该多层膜由下至上依次包括:基片、底层、参考磁性层、中间层、探测磁性层和覆盖层,其中所述参考磁性层具有钉扎结构,用于将探测磁性层磁矩转动的信息转化成电信号,所述探测磁性层具有钉扎结构,用于感应被探测磁场。本发明通过在AFM和FM之间加入插入层减小了直接交换偏置的钉扎效果,并且通过调节该插入层的厚度有效调控间接交换偏置的钉扎效果,以得到在外磁场为零时参考磁性层和探测磁性层的磁矩相互垂直,从而获得具有线性响应的基于GMR或TMR效应的线性磁敏传感器。
申请公布号 CN102270736A 申请公布日期 2011.12.07
申请号 CN201010195799.6 申请日期 2010.06.01
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 马勤礼;刘厚方;韩秀峰
分类号 H01L43/08(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I;G01R33/09(2006.01)I 主分类号 H01L43/08(2006.01)I
代理机构 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人 王勇
主权项 一种用于磁敏传感器的磁性纳米多层膜,由下至上依次包括:基片;底层;参考磁性层;中间层;探测磁性层;和覆盖层;其中所述参考磁性层具有钉扎结构,用于将探测磁性层磁矩转动的信息转化成电信号,所述探测磁性层具有钉扎结构,用于感应被探测磁场。
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