发明名称 |
激光镭射电磁屏蔽膜 |
摘要 |
本实用新型涉及一种镭射膜,公开了一种防静电的激光镭射电磁屏蔽膜,包括PET膜,PET膜上涂有一层镭射介质层,镭射介质层上压印有一层激光镭射层,激光镭射层上镀有镀铝层,镀铝层上涂有电磁屏蔽层。电磁屏蔽层能够更好的防静电。按照本实用新型的技术方案,激光镭射电磁屏蔽膜不仅美观、防伪能力强,还可广泛用于工业电磁屏蔽领域的防伪。 |
申请公布号 |
CN202062740U |
申请公布日期 |
2011.12.07 |
申请号 |
CN201120180305.7 |
申请日期 |
2011.05.31 |
申请人 |
温州宏达激光图像有限公司 |
发明人 |
陈显东 |
分类号 |
B32B15/04(2006.01)I;B32B15/20(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I |
主分类号 |
B32B15/04(2006.01)I |
代理机构 |
浙江永鼎律师事务所 33233 |
代理人 |
王梨华;陈丽霞 |
主权项 |
激光镭射电磁屏蔽膜,包括PET膜(1), PET膜(1)上涂有一层镭射介质层(2),镭射介质层(2)上压印有一层激光镭射层(3),激光镭射层(3)上镀有镀铝层(4),其特征在于:所述的镀铝层(4)上涂有电磁屏蔽层(5)。 |
地址 |
325802 浙江省温州市龙港镇印刷礼品标准工业园A11 |