发明名称 激光镭射电磁屏蔽膜
摘要 本实用新型涉及一种镭射膜,公开了一种防静电的激光镭射电磁屏蔽膜,包括PET膜,PET膜上涂有一层镭射介质层,镭射介质层上压印有一层激光镭射层,激光镭射层上镀有镀铝层,镀铝层上涂有电磁屏蔽层。电磁屏蔽层能够更好的防静电。按照本实用新型的技术方案,激光镭射电磁屏蔽膜不仅美观、防伪能力强,还可广泛用于工业电磁屏蔽领域的防伪。
申请公布号 CN202062740U 申请公布日期 2011.12.07
申请号 CN201120180305.7 申请日期 2011.05.31
申请人 温州宏达激光图像有限公司 发明人 陈显东
分类号 B32B15/04(2006.01)I;B32B15/20(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;B32B33/00(2006.01)I 主分类号 B32B15/04(2006.01)I
代理机构 浙江永鼎律师事务所 33233 代理人 王梨华;陈丽霞
主权项 激光镭射电磁屏蔽膜,包括PET膜(1), PET膜(1)上涂有一层镭射介质层(2),镭射介质层(2)上压印有一层激光镭射层(3),激光镭射层(3)上镀有镀铝层(4),其特征在于:所述的镀铝层(4)上涂有电磁屏蔽层(5)。
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