反应腔室的密封装置及方法

摘要

本发明公开了一种反应腔室的密封装置及方法，涉及半导体生产装置技术领域，所述装置包括工艺管(1)、工艺板(2)、密封气体供应单元(6)和气压控制单元(5)。本发明通过设置气压控制单元通过调节凹槽内密封气体的压力，以实现所述反应腔室内工艺气体的压力与所述凹槽内密封气体的压力平衡，从而保证所述反应腔室内工艺气体不会泄露出来，同时也控制所述凹槽内密封气体的压力大于外界气体的压力，防止外部气体进入所述凹槽，解决了在高温的处理工艺中对反应腔室进行有效的密封的问题。

主权项

一种反应腔室的密封装置，其特征在于，所述密封装置包括：工艺管(1)、工艺板(2)、密封气体供应单元(6)和气压控制单元(5)，所述工艺管(1)的管口垂直向下，所述工艺管(1)的管口外沿处设置有与所述工艺管(1)一体的法兰(13)，所述工艺板(2)通过所述法兰(13)与所述工艺管(1)连接，所述法兰(13)在与所述工艺板(2)接触的底面上沿所述工艺管(1)的管口一周设有凹槽(3)，所述法兰(13)上设有进气管道(4)，所述进气管道(4)的一端与所述凹槽(3)连接，所述进气管道(4)的另一端与所述气压控制单元(5)的一端连接，所述气压控制单元(5)的另一端与所述密封气体供应单元(6)连接。