| 发明名称 | 光固化性转印片、以及使用其的凹凸图案的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光固化性转印片，其为在纳米压印加工法中，可有利地用于中间压模的制作的光固化性转印片，该光固化性转印片与此时所使用的具有微细凹凸图案的模具的剥离性、以及与从该中间压模转印凹凸图案而得到的产品的光固化树脂的剥离性良好，且，与基材薄膜的密合性良好；进而提供使用了该光固化性转印片的形成微细的凹凸图案的方法。光固化性转印片(10)，其特征在于，其为具有可通过加压变形的由光固化性组合物形成的光固化性转印层(11)的光固化性转印片(10)，其中，前述光固化性组合物作为润滑剂含有有机硅系树脂和/或含氟原子的烯属化合物，光固化性转印层(11的表面能超过20mN/m、不足30mN/m。进而，提供使用了该光固化性转印片10的形成凹凸图案的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102272887A | 申请公布日期 | 2011.12.07 |
| 申请号 | CN201080004245.1 | 申请日期 | 2010.01.08 |
| 申请人 | 株式会社普利司通 | 发明人 | 稻宫隆人;桥元贤志;甲斐田荣三 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;B29C59/02(2006.01)I;G11B7/26(2006.01)I;B29K33/04(2006.01)I;B29K83/00(2006.01)I;B29L7/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种光固化性转印片，其特征在于，所述光固化性转印片具有可通过加压变形的由光固化性组合物形成的光固化性转印层，其中，所述光固化性组合物作为润滑剂含有有机硅系树脂和/或含氟原子的烯属化合物，光固化性转印层的表面能超过20mN/m、不足30mN/m。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||