灰调掩模及其制造方法

摘要

本发明提供一种可容易地获得透射率控制膜的膜厚均匀性高的灰调掩模的制造方法。例如，在透明衬底11上依次形成透射率控制膜12(CrO等)、透射率降低膜13(Cr等)和抗蚀剂膜14，除去应形成透光部的部分(区域C)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13和透射率控制膜12而形成透光部，接着，除去应形成灰调部的部分(区域A)上的抗蚀剂，除去该部分上的透射率降低膜13而形成灰调部，来制造灰调掩模。

主权项

一种LCD用灰调掩模，该LCD用灰调掩模具有遮光部、透光部、透射一部分曝光光的灰调部，该LCD用灰调掩模的特征在于，所述遮光部从透明衬底一侧起，至少由主要控制灰调部中的透射率的半透光膜、膜厚100～1000埃的蚀刻阻止膜、以及降低遮光部中的透射率的遮光膜构成，所述灰调部由所述半透光膜、或者所述半透光膜和透明的所述蚀刻阻止膜构成，所述半透光膜由CrOx、CrNx、CrOxNy或CrFx、或包含碳和氢的CrOx、CrNx、CrOxNy、CrFx构成，所述半透光膜和所述遮光膜包含相同的金属，所述遮光部、所述透光部以及所述灰调部是使用在透明衬底上至少依次形成有所述半透光膜、所述蚀刻阻止膜以及所述遮光膜的掩模板，通过湿式蚀刻而形成的。