一种磁控与离子束复合溅射沉积系统

摘要

本发明公开一种磁控与离子束复合溅射沉积系统，由磁控室、离子束室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、Kaufman离子枪、四工位转靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。磁控室和离子束室均为立式圆筒型，电动上掀盖结构，两个真空室下面各安装一套抽气系统，通过磁力送样机构实现两个真空室基片的交接。该系统磁控溅射和离子束溅射可以在两个独立的真空室同时进行，并且可以互作基片预处理室，而且取放基片和更换磁控靶靶材的工作都可以在磁控室进行，这样离子束室可以长时间保持超高真空。

主权项

一种双室磁控与离子束复合溅射沉积系统，包括磁控室(1)、离子束室(2)、磁控溅射靶(3)、基片水冷加热公转台(4、4′)、Kaufman离子枪(5、5′)、四工位转靶(6)、磁力送样机构(7)、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统；其特征在于：所述磁控室(1)和离子束室(2)通过闸板阀(13′)互锁，通过磁力送样机构(7)实现两个真空室间的基片交接；两个真空室均为圆筒型立式结构，安装在机台架组件(9)上，共用一个电动提升机构(14)实现上掀盖；磁控室(1)通过闸板阀(13)和涡轮分子泵(8)联接并与下面的机械泵(16)组成一套真空抽气装置；离子束室(2)通过闸板阀(13″)和抽速涡轮分子泵(8′)联接并与机械泵(16′)组成另一套真空抽气装置。