用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法

摘要

本发明涉及用于最终除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法，所述方法包括：a)用于水解所述气体中含有的COS和HCN以及用于收集含卤素化合物的联合步骤，其中使用TiO2-基催化剂；b)使用溶剂的洗涤步骤；c)用于收集体或吸附剂上的脱硫的步骤，根据本发明方法的纯化的合成气包含少于10ppb重量的含硫杂质、少于10ppb重量的含氮杂质和少于10ppb重量的含卤素杂质。

主权项

用于除去在合成气中包含的含硫、含氮和含卤素杂质的方法，所述杂质如H2S、COS、CS2、HCN、NH3、HF、HCl、HBr和HI，所述方法包括：a) 使用TiO2‑基的催化剂的用于水解COS和HCN以及用于捕集含卤素化合物的联合步骤，所述催化剂包含10重量%至100重量%之间的TiO2和1重量%至30重量%之间的选自钙、钡、锶和镁的碱土金属的至少一种硫酸盐 ，b) 使用至少一种溶剂的洗涤步骤，c) 用于在捕集体或吸附剂上脱硫的步骤。