发明名称 |
连续性微透镜阵列的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种连续性微透镜阵列、其制造方法及定义其的光掩模,所述微透镜阵列包括相连的多个微透镜,其中每一个微透镜在其与相邻的微透镜相连处以上的各高度具有大致呈圆形的等高线,且在与相邻的微透镜抵接相连处的各高度的等高线轮廓大致呈部分圆形。在此连续性微透镜阵列中,不同位置上的微透镜的曲面形状可因入射光角度的不同而调整。 |
申请公布号 |
CN101493535B |
申请公布日期 |
2011.12.07 |
申请号 |
CN200810008550.2 |
申请日期 |
2008.01.23 |
申请人 |
联华电子股份有限公司 |
发明人 |
林淯琮;吴心平;高弘昭;王铭义 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I;H01L27/148(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
彭久云 |
主权项 |
一种连续性微透镜阵列的制造方法,包括:采用单一个光掩模定义形成光致抗蚀剂图案阵列,其中每一个光致抗蚀剂图案的上视轮廓大致呈圆形或多边形,且相邻光致抗蚀剂图案彼此相连或靠近,每一个光致抗蚀剂图案包括大致呈圆形或多边形的柱状部分,以及其外围大致呈圆形或多边形且高度低于该柱状部分的至少一个环状片段,而当每一个光致抗蚀剂图案包括两个或更多个环状片段时,各环状片段的高度不一,且由内向外递减;进行回熔步骤,其包括加热该光致抗蚀剂图案阵列,以使每一个光致抗蚀剂图案的表面圆化,并使彼此靠近的相邻光致抗蚀剂图案相连;以及进行定形步骤以固定每一个光致抗蚀剂图案的形状,其中该定形步骤使用紫外光照射该光致抗蚀剂图案阵列。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |